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敬请届时光临是什么意思,万望届时光临是什么意思 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好(hǎo),来看一则(zé)突发消息。

  美光公(gōng)司(sī)在(zài)华销售的产(chǎn)品未(wèi)通过(guò)网络安全审查(chá)

  据网信办消息,日前,网络安全审(shěn)查办公室依(yī)法对美(měi)光公司在华销售产(chǎn)品进行(xíng)了网络安全审敬请届时光临是什么意思,万望届时光临是什么意思查(chá)。

  审查发现,美(měi)光(guāng)公司产品存(cún)在较(jiào)严重(zhòng)网络安全问题隐患,对我国关键信息(xī)基础设施供应链造成重大安全风险(xiǎn),影(yǐng)响我国国(guó)家安(ān)全。为(wèi)此(cǐ),网络安全审查(chá)办(bàn)公室依法(fǎ)作出不(bù)予通过(guò)网络安全审查的(de)结论(lùn)。按照《网络安全法(fǎ)》等法律法规,我国内关键(jiàn)信息基础设施(shī)的运营者(zhě)应停止采(cǎi)购美光公司产品。

  此(cǐ)次对美(měi)光公司产品进行(xíng)网络(luò)安(ān)全审(shěn)查,目的(de)是防范(fàn)产品(pǐn)网络安全问题危害国家关键信息基础(chǔ)设施安(ān)全,是维护(hù)国家(jiā)安全的必要措施。中国坚定推进高水平对外开放,只要遵守中国法律法规要求,欢迎各国企业、各类平(píng)台产品服务进入中(zhōng)国市场(chǎng)。

  半导体突发!中(zhōng)国出手:停止(zhǐ)采购!

  3月31日,中(zhōng)国网信(xìn)网发文称,为保障关键信息(xī)基础设施供应链(liàn)安全,防范产(chǎn)品(pǐn)问题隐患造成网络安全风险,维护国(guó)家安(ān)全,依据《中(zhōng)华人(rén)民共(gòng)和国国家(jiā)安全法(fǎ)》《中华人民共和国网(wǎng)络(luò)安全(quán)法》,网络安全(quán)审查办(bàn)公室按(àn)照《网络安全审查办法》,对美光公司(Micron)在华销售的产品实(shí)施网(wǎng)络安(ān)全审查。

  半导体突发!中国出手:停止(zhǐ)采购!

  美光是美国(guó)的存储(chǔ)芯片行业龙头,也是全球(qiú)存储芯片(piàn)巨头(tóu)之一,2022年收入(rù)来自中(zhōng)国(guó)市场收入从此前高峰57%降至2022年约11%。根据市场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电子(zi)、 铠侠、西部数(shù)据(jù)、SK 海力士、美(měi)光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存(cún))市场份额(é)约(yuē)为 96.76%,三星电子、 SK 海力士、美(měi)光(guāng)在(zài)全球 DRAM (内存)市场(chǎng)份额约为(wèi) 94.35%。

  A股上市(shì)公司中,江波龙、佰维(wéi)存(cún)储(chǔ)等公司披露(lù)过美光等国际存储厂商(shāng)为公司供应商。

  美光(guāng)在江(jiāng)波龙采(cǎi)购占比已经显著下(xià)降,至少已经(jīng)不是主要大(dà)供应(yīng)商。

  公告显示, 2021年美光位列江波龙第一大存储晶圆供应(yīn敬请届时光临是什么意思,万望届时光临是什么意思g)商,采购约31亿元,占(zhàn)比33.52%;2022年,江波龙第一(yī)大、第(dì)二大和第三大供应商采购(gòu)金(jīn)额(é)占比分别(bié)是26.28%、22.85%和(hé)5.76%。

  目(mù)前江波龙已经在存储产业链上下(xià)游(yóu)建立国内外广泛合作。2022年(nián)年报显示,江波龙与三星、美光(guāng)、西部数据等主要(yào)存储晶圆(yuán)原厂签署了(le)长期合约,确保存储晶圆供应的稳定性(xìng),巩固公司在下游市(shì)场的供应(yīng)优势,公司也与国内(nèi)国产(chǎn)存储晶圆原厂武汉长(zhǎng)江存储、合肥长鑫保持良好的合作。

  有券商此(cǐ)前就分析,如果美(měi)光(guāng)在中国区销(xiāo)售受到限制(zhì),或将导致下游客户(hù)转(zhuǎn)而(ér)采购国外(wài)三星(xīng)、 SK海(hǎi)力士,国内长江存(cún)储、长鑫(xīn)存储等竞对产品

  分析称(chēng),长存、长鑫(xīn)的上游设备厂(chǎng)或从中受(shòu)益(yì)。存储器的(de)生产(chǎn)已经演进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工艺。另外NAND Flash现(xiàn)在已经进入3D NAND时代,2 维(wéi)到3维(wéi)的结(jié)构转(zhuǎn)变(biàn)使刻蚀和薄膜成为最关(guān)键、最大量的(de)加工设(shè)备。3D NAND每层均需(xū)要经过薄膜沉(chén)积(jī)工艺步骤,同时刻蚀目前前沿要刻到(dào) 60:1的(de)深(shēn)孔(kǒng),未来可能会(huì)更深的(de)孔或者沟(gōu)槽,催(cuī)生更多(duō)设(shè)备(bèi)需求。据东京电子披露,薄膜沉积(jī)设备及刻蚀占3D NAND产线资本开支合(hé)计(jì)为75%。自长江(jiāng)存储(chǔ)被加入美国限(xiàn)制名单,设备(bèi)国产化(huà)进程加(jiā)速(sù),看好(hǎo)拓荆科技(薄膜沉(chén)积)等相关公司份(fèn)额提(tí)升(shēng),以及存储业务占比较高的(de)华海清科(kē)(CMP)、盛美上(shàng)海(清洗(xǐ))等收入增(zēng)长(zhǎng)。

 

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